Back to top
  • 공유 แชร์
  • 인쇄 พิมพ์
  • 글자크기 ขนาดตัวอักษร
ลิงก์ถูกคัดลอกแล้ว

Samsung ใช้กระบวนการ 3 นาโนเมตรของ TSMC ผลิตเบสได HBM แบบปรับแต่งสำหรับ Nvidia

ลอจิกไดสำหรับการซ้อนหน่วยความจำวางอยู่บนเวเฟอร์ / TokenPost.ai

มีรายงานว่า Samsung Electronics($005930) จะใช้กระบวนการ 3 นาโนเมตรของ TSMC ผลิตเบสไดสำหรับ NVHBM หน่วยความจำแบนด์วิดท์สูงแบบปรับแต่งของ Nvidia($NVDA) ขณะเดียวกัน Samsung กำลังตรวจสอบความเป็นไปได้ในการผลิตด้วยโรงหล่อของตนเอง

Odaily รายงานเรื่องนี้เมื่อวันที่ 18 โดยอ้างโพสต์บน X ของ Jukan นักวิเคราะห์จาก Citrini ซึ่งระบุว่า Nvidia เรียกร้องให้ Samsung ใช้กระบวนการดังกล่าว โดยอ้างอิงรายงานจากสื่อเกาหลี

เบสไดเป็นชิปตรรกะที่อยู่ใต้คอร์ได ซึ่งทำหน้าที่เป็นหน่วยความจำใน HBM Nvidia เปิดตัว NVHBM พร้อมอธิบายโครงสร้างที่รวมตัวควบคุมหน่วยความจำแบบปรับแต่งไว้ในเบสไดของ HBM

Odaily ระบุเพิ่มเติมว่า Samsung กำลังตรวจสอบว่าสามารถผลิตเบสไดด้วยโรงหล่อของตนเองได้หรือไม่ เผื่อกรณีที่ความต้องการ NVHBM สูงเกินกำลังการผลิตของ TSMC อย่างไรก็ตาม รายงานไม่ได้ระบุปริมาณการผลิตจริงหรือกำหนดการ

<ลิขสิทธิ์ ⓒ TokenPost ห้ามเผยแพร่หรือแจกจ่ายซ้ำโดยไม่ได้รับอนุญาต>

บทความที่มีคนดูมากที่สุด

บทความที่เกี่ยวข้อง

ความคิดเห็น 0

ข้อแนะนำสำหรับความคิดเห็น

ขอบคุณสำหรับบทความดี ๆ ต้องการบทความติดตามเพิ่มเติม เป็นการวิเคราะห์ที่ยอดเยี่ยม

0/1000

ข้อแนะนำสำหรับความคิดเห็น

ขอบคุณสำหรับบทความดี ๆ ต้องการบทความติดตามเพิ่มเติม เป็นการวิเคราะห์ที่ยอดเยี่ยม
1