ข่าว 
ข้อมูลเหรียญ 
แนะนำสื่อ 
ซัมซุง อิเลคทรอนิคส์(Samsung Electronics) เดินหน้าพัฒนาโฟโตมาสก์ขนาด 12 นิ้วรุ่นใหม่ร่วมกับ ASML พร้อมวางแผนนำเทคโนโลยี 'Hyper NA EUV' มาใช้ในการผลิตดีแรม(DRAM) ขั้นสูงภายในปี 2028
ซัมซุง อิเลคทรอนิคส์เปิดเผยเมื่อวันที่ 8 ว่าบริษัทจะเข้าร่วมกลุ่มความร่วมมือด้านมาสก์ขนาดใหญ่ที่นำโดย ASML โดยกลุ่มนี้จะดำเนินการวิจัยร่วมกันและพัฒนามาตรฐานเพื่อเปลี่ยนโฟโตมาสก์จากขนาด 6 นิ้วเดิมให้เป็นขนาด 12 นิ้ว
บริษัทระบุว่าโฟโตมาสก์ขนาด 12 นิ้วจะช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการผลิตของเทคโนโลยี 'Hyper NA EUV' และลดข้อจำกัดของกระบวนการแบ่งวงจรออกเป็นส่วนๆ แล้วนำมาเชื่อมต่อกันภายหลัง ซึ่งจะช่วยลดต้นทุนการผลิตชิปได้ ซัมซุง อิเลคทรอนิคส์วางแผนนำเทคโนโลยี 'Hyper NA EUV' มาใช้ในการผลิตดีแรมขั้นสูงภายในปี 2028 เพื่อลดความซับซ้อนของกระบวนการผลิตและเพิ่มประสิทธิภาพการผลิตให้สูงขึ้น
ความคิดเห็น 0