Samsung Electronics เปิดเผยแผนงานการนำเทคโนโลยีการพิมพ์ลายวงจรด้วยแสงอัลตราไวโอเลตย่านสุดขั้วแบบรูรับแสงตัวเลขสูง (High-NA EUV) มาใช้ในขั้นตอนการผลิตจำนวนมากสำหรับกระบวนการผลิตชิปขนาด 1 นาโนเมตร
เว็บไซต์ข่าว BlockBeats รายงานว่าแผนดังกล่าวเป็นส่วนหนึ่งของแผนงานเทคโนโลยีการพิมพ์ลายวงจรรุ่นใหม่ที่ Samsung Electronics เปิดเผยออกมา
ความคิดเห็น 0