Back to top
  • 공유 แชร์
  • 인쇄 พิมพ์
  • 글자크기 ขนาดตัวอักษร
ลิงก์ถูกคัดลอกแล้ว

เผยแผนงาน 1 นาโนเมตร: Samsung Electronics เตรียมใช้เทคโนโลยี High-NA EUV

Samsung Electronics เปิดเผยแผนงานการนำเทคโนโลยีการพิมพ์ลายวงจรด้วยแสงอัลตราไวโอเลตย่านสุดขั้วแบบรูรับแสงตัวเลขสูง (High-NA EUV) มาใช้ในขั้นตอนการผลิตจำนวนมากสำหรับกระบวนการผลิตชิปขนาด 1 นาโนเมตร

เว็บไซต์ข่าว BlockBeats รายงานว่าแผนดังกล่าวเป็นส่วนหนึ่งของแผนงานเทคโนโลยีการพิมพ์ลายวงจรรุ่นใหม่ที่ Samsung Electronics เปิดเผยออกมา

<ลิขสิทธิ์ ⓒ TokenPost ห้ามเผยแพร่หรือแจกจ่ายซ้ำโดยไม่ได้รับอนุญาต>

บทความที่มีคนดูมากที่สุด

บทความที่เกี่ยวข้อง

ความคิดเห็น 0

ข้อแนะนำสำหรับความคิดเห็น

ขอบคุณสำหรับบทความดี ๆ ต้องการบทความติดตามเพิ่มเติม เป็นการวิเคราะห์ที่ยอดเยี่ยม

0/1000

ข้อแนะนำสำหรับความคิดเห็น

ขอบคุณสำหรับบทความดี ๆ ต้องการบทความติดตามเพิ่มเติม เป็นการวิเคราะห์ที่ยอดเยี่ยม
1