เอเอสเอ็มแอล(ASML) ผู้ผลิตเครื่องฉายแสงลิโธกราฟีด้วยแสงอัลตราไวโอเลตยิ่งยวด (EUV) รายใหญ่ของโลก เปิดเผยว่าคำมั่นสั่งซื้ออุปกรณ์จากลูกค้าเพิ่มขึ้นต่อเนื่อง สะท้อนว่าการขยายกำลังผลิตชิปปัญญาประดิษฐ์ (AI) ของบริษัทเทคโนโลยีทั่วโลกกำลังส่งผลไปถึงคำสั่งซื้อเครื่องจักรและการเปลี่ยนผ่านสู่กระบวนการผลิตขั้นสูง อย่างไรก็ตาม ความเคลื่อนไหวนี้ไม่ได้เกิดจากลูกค้าหลายรายสั่งซื้อเครื่องเดียวกันพร้อมกันเป็นจำนวนมาก แต่เป็นการดำเนินไปคนละแนวทาง คือ △คำสั่งซื้อเครื่อง ‘EUV’ ใหม่ △การนำ ‘High NA EUV’ ไปใช้ผลิตจริง และ △ความร่วมมือด้านการเปลี่ยนผ่านโฟโต้มาสก์ ซึ่งแต่ละส่วนดำเนินไปแยกจากกัน
เอเอสเอ็มแอลระบุว่าผลประกอบการไตรมาส 2 ปี 2026 มีรายได้ 9,326 ล้านยูโร และกำไรสุทธิ 2,918 ล้านยูโร พร้อมปรับเพิ่มคาดการณ์รายได้ทั้งปี 2026 เป็น 4.3-4.5 หมื่นล้านยูโร จากที่เคยประเมินไว้ก่อนหน้านี้
คริสตอฟ ฟูเกต์(Christophe Fouquet) ประธานและประธานเจ้าหน้าที่บริหาร (CEO) ของเอเอสเอ็มแอล กล่าวว่า “การเร่งแผนขยายกำลังผลิตของลูกค้าทำให้เกิดคำมั่นสั่งซื้อสินค้าในหลายกลุ่มผลิตภัณฑ์ ส่งผลให้มองเห็นทิศทางความต้องการระยะยาวชัดเจนขึ้น” คำกล่าวนี้สะท้อนว่าการลงทุนที่เกี่ยวข้องกับ AI กำลังผลักดันความต้องการชิปลอจิกขั้นสูงและหน่วยความจำ จนทำให้มองเห็นทิศทางความต้องการเครื่องจักรได้ชัดขึ้นตามไปด้วย
ในการแถลงผลประกอบการไตรมาส 2 ปี 2026 เอเอสเอ็มแอลระบุว่ามีแผนขยายกำลังผลิตเครื่อง ‘Low-NA EUV’ ในปี 2027 เพิ่มขึ้น 30% จากระดับราว 65 เครื่องในปี 2026 และอยู่ระหว่างพิจารณาขยายเพิ่มอีก 30% ในปี 2028 ทั้งนี้ทั้งสองแผนยังอยู่ในขั้นตอนกำหนดตารางขยายกำลังผลิตในอนาคตเท่านั้น
ความเคลื่อนไหวของลูกค้าแต่ละรายแตกต่างกันไป โดยเอสเค ไฮนิกซ์(SK hynix, 000660) แจ้งตลาดหลักทรัพย์เมื่อวันที่ 24 มีนาคม ว่าจะซื้อเครื่องฉายแสง ‘EUV’ จากเอเอสเอ็มแอล มูลค่า 11.95 ล้านล้านวอน โดยเครื่องจักรจะถูกส่งมอบภายในวันที่ 31 ธันวาคม 2027 เพื่อใช้ในการผลิตผลิตภัณฑ์รุ่นต่อไป
ด้านอินเทล(Intel, INTC) นำเครื่อง ‘High NA EUV’ ของเอเอสเอ็มแอลไปใช้ผลิตโปรเซสเซอร์บางรุ่นในตระกูล Core Ultra ซีรีส์ 3 ด้วยกระบวนการ Intel 18A โดยเอเอสเอ็มแอลระบุเมื่อวันที่ 15 กรกฎาคม ว่านี่เป็นกรณีแรกที่นำ ‘High NA EUV’ ไปใช้ผลิตชิปลอจิกมูลค่าสูงในเชิงพาณิชย์ พร้อมอธิบายว่ายังอยู่ในขั้นตอนตรวจสอบอัตราผลผลิตและความเหมาะสมในการผลิตจริงโดยใช้อุปกรณ์ที่มีอยู่เดิม
ขณะที่ทีเอสเอ็มซี(TSMC, TSM) และเอเอสเอ็มแอลประกาศความร่วมมือด้านการเปลี่ยนผ่านโฟโต้มาสก์ขนาด 12 นิ้วเมื่อวันที่ 8 กันยายน โดยทั้งสองบริษัทวางแผนสร้างสายการผลิตนำร่องสำหรับมาสก์ขนาด 12 นิ้วในปี 2031 และเตรียมอุปกรณ์ให้พร้อมสำหรับการผลิตโหนดขั้นสูงภายในปี 2033 ทั้งนี้ทีเอสเอ็มซีระบุว่าจะเริ่มใช้ ‘High NA EUV’ ในการผลิตเชิงพาณิชย์ตั้งแต่ปี 2030
โฟโต้มาสก์คือแผ่นต้นแบบที่ใช้ถ่ายโอนลวดลายวงจรเซมิคอนดักเตอร์ลงบนเวเฟอร์ การเปลี่ยนผ่านสู่โฟโต้มาสก์ขนาด 12 นิ้วเป็นความพยายามปรับกระบวนการผลิตมาสก์และระบบอุปกรณ์ให้สอดคล้องกับเวเฟอร์ขนาดใหญ่ขึ้น ซึ่งเป็นคนละประเด็นกับคำสั่งซื้อเครื่อง ‘EUV’ ใหม่โดยตรง
‘EUV’ คือเทคโนโลยีการฉายแสงที่ใช้ความยาวคลื่นอัลตราไวโอเลตยิ่งยวดในการพิมพ์ลายวงจรลงบนเวเฟอร์ ส่วน ‘High NA EUV’ เป็นเทคโนโลยีรุ่นถัดไปที่มีค่ารูรับแสง (NA) สูงกว่าเดิม ทำให้พิมพ์ลวดลายวงจรที่ละเอียดขึ้นได้ แต่การผลิตเชิงพาณิชย์จะขยายตัวได้ก็ต่อเมื่อมีการติดตั้งเครื่องจักรควบคู่กับการตรวจสอบอัตราผลผลิตไปพร้อมกัน
เอเอสเอ็มแอลระบุว่ากำลังผลิตเครื่อง ‘EUV’ สำหรับปี 2027 ถูกจองเกือบเต็มแล้ว และคำสั่งซื้อสำหรับปี 2028 ก็ถูกจับจองไว้เป็นสัดส่วนมากพอสมควร รอยเตอร์รายงานโดยอ้างคำให้สัมภาษณ์ของประธานเจ้าหน้าที่ฝ่ายการเงิน (CFO) ของเอเอสเอ็มแอลว่า ความต้องการเครื่องจักรในระยะกลางถึงระยะยาวเริ่มปรากฏชัดเจนก่อนที่จะสะท้อนในผลประกอบการระยะสั้น
ฐานคำสั่งซื้อของเอเอสเอ็มแอลก็ขยายตัวเช่นกัน บริษัทระบุว่า ณ สิ้นปี 2025 มียอดคำสั่งซื้อค้างส่ง (backlog) 3.88 หมื่นล้านยูโร และเมื่อเดือนมกราคม 2026 เคยประเมินรายได้ทั้งปีไว้ที่ 3.4-3.9 หมื่นล้านยูโร ก่อนจะปรับเพิ่มเป็น 4.3-4.5 หมื่นล้านยูโรในการแถลงผลประกอบการเดือนกรกฎาคมที่ผ่านมา
ความเคลื่อนไหวครั้งนี้จึงเป็นภาพของการขยายกำลังผลิตหน่วยความจำและชิปลอจิกขั้นสูงเพื่อรองรับ AI ที่แผ่ขยายไปพร้อมกันทั้งด้านเครื่องจักร กระบวนการผลิต และเทคโนโลยีมาสก์ มากกว่าจะเป็นคำสั่งซื้อเครื่องจักรก้อนใหญ่เพียงรายการเดียว โดยเอสเค ไฮนิกซ์สั่งซื้อเครื่อง ‘EUV’ ไว้แน่นอนแล้ว อินเทลเริ่มนำ ‘High NA EUV’ ไปใช้ผลิตจริง ส่วนทีเอสเอ็มซีเดินหน้าผลักดันการเปลี่ยนผ่านโฟโต้มาสก์ขนาดใหญ่
กระแสการลงทุนด้าน AI ที่ขยายไปสู่โครงสร้างพื้นฐานการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และห่วงโซ่อุปทาน เคยถูกนำเสนอในรายงานก่อนหน้านี้ของสำนักข่าวเกี่ยวกับห่วงโซ่อุปทานเซมิคอนดักเตอร์และเครื่องจักรเช่นกัน กรณีล่าสุดนี้แสดงให้เห็นว่าความต้องการด้าน AI ไม่ได้จำกัดอยู่แค่การออกแบบชิปหรือศูนย์ข้อมูลเท่านั้น แต่ยังส่งผลไปถึงตารางการลงทุนด้านเครื่องฉายแสงและกระบวนการผลิตด้วย
ในตลาดหุ้นก็มีปฏิกิริยาตอบรับเช่นกัน หุ้นเอเอสเอ็มแอลในตลาดเนเธอร์แลนด์ปิดวันที่ 7 กันยายนที่ 1,500.40 ยูโร เพิ่มขึ้น 2.25% จากวันก่อนหน้า ส่วนตลาดหุ้นกรุงโซลช่วงเช้าวันที่ 8 กันยายน หุ้นเอสเค ไฮนิกซ์เพิ่มขึ้น 3.98% และหุ้นซัมซุง อิเล็กทรอนิกส์(Samsung Electronics, 005930) เพิ่มขึ้น 2.59%
ทั้งนี้ ทั้งแผนขยายกำลังผลิต การนำ ‘High NA EUV’ ไปใช้ผลิตจริง และการเปลี่ยนผ่านโฟโต้มาสก์ขนาด 12 นิ้ว ยังอยู่ในขั้นตอนที่มีส่วนของแผนงานในอนาคตรวมอยู่ด้วยทั้งสิ้น โดยการส่งมอบเครื่องจักรให้เอสเค ไฮนิกซ์มีกำหนดภายในวันที่ 31 ธันวาคม 2027 ส่วนสายการผลิตนำร่องมาสก์ของทีเอสเอ็มซีตั้งเป้าไว้ในปี 2031 และการเตรียมพร้อมด้านอุปกรณ์สำหรับการผลิตโหนดขั้นสูงตั้งเป้าไว้ในปี 2033
ความคิดเห็น 0